臺積電用上英偉達(dá)計算光刻平臺生產(chǎn) 半導(dǎo)體制造業(yè)革新提速
臺積電用上英偉達(dá)計算光刻平臺生產(chǎn)
年初，英偉達(dá)攜手半導(dǎo)體領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)臺積電和新思科技,，共同推進(jìn)計算光刻平臺的應(yīng)用,，旨在加速下一代先進(jìn)半導(dǎo)體芯片的制造進(jìn)程,，挑戰(zhàn)物理極限,。英偉達(dá)的領(lǐng)軍人物黃仁勛強調(diào)，計算光刻作為芯片制造的關(guān)鍵技術(shù),，通過cuLitho平臺與創(chuàng)新算法的結(jié)合,，能顯著改善半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝，超越傳統(tǒng)CPU驅(qū)動方法的效能,。
臺積電已采納cuLitho計算光刻平臺,，以此加快其最前沿芯片技術(shù)的開發(fā)步伐。英偉達(dá)還融入了生成式人工智能算法,，與加速計算技術(shù)相輔相成,，使生產(chǎn)效率再獲雙倍提升。
臺積電的掌舵人魏哲家指出,，雙方的合作將GPU加速運算整合進(jìn)臺積電的工作流程,，這一舉措不僅帶來了性能上的巨大飛越，還成功縮減了周期時長,，降低了能耗標(biāo)準(zhǔn),，同時提升了處理能力。
計算光刻技術(shù)核心在于通過精密的軟件模擬優(yōu)化光刻過程,，它借助數(shù)學(xué)手段預(yù)處理光掩模數(shù)據(jù),，調(diào)整光學(xué)效應(yīng)，確保光刻圖像與芯片設(shè)計的高度契合,，提升成品率,。cuLitho計算光刻庫的巧妙運用，使得任務(wù)能夠高效地分配給GPU并行處理,，僅僅500臺NVIDIA DGX H100即可匹敵由40000個CPU構(gòu)成的系統(tǒng)處理能力,。
據(jù)英偉達(dá)介紹，采用GPU進(jìn)行計算光刻相較于CPU能實現(xiàn)效率40倍的躍升,，極大緩解了芯片制造廠的壓力,，推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向新的高度。臺積電用上英偉達(dá)計算光刻平臺生產(chǎn),！
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