臺(tái)積電用上英偉達(dá)計(jì)算光刻平臺(tái)生產(chǎn) 半導(dǎo)體制造業(yè)革新提速
臺(tái)積電用上英偉達(dá)計(jì)算光刻平臺(tái)生產(chǎn)
年初,，英偉達(dá)攜手半導(dǎo)體領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)臺(tái)積電和新思科技,，共同推進(jìn)計(jì)算光刻平臺(tái)的應(yīng)用，旨在加速下一代先進(jìn)半導(dǎo)體芯片的制造進(jìn)程，挑戰(zhàn)物理極限,。英偉達(dá)的領(lǐng)軍人物黃仁勛強(qiáng)調(diào),，計(jì)算光刻作為芯片制造的關(guān)鍵技術(shù),，通過(guò)cuLitho平臺(tái)與創(chuàng)新算法的結(jié)合,，能顯著改善半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝,，超越傳統(tǒng)CPU驅(qū)動(dòng)方法的效能,。
臺(tái)積電已采納cuLitho計(jì)算光刻平臺(tái)，以此加快其最前沿芯片技術(shù)的開(kāi)發(fā)步伐,。英偉達(dá)還融入了生成式人工智能算法,，與加速計(jì)算技術(shù)相輔相成，使生產(chǎn)效率再獲雙倍提升,。
臺(tái)積電的掌舵人魏哲家指出,，雙方的合作將GPU加速運(yùn)算整合進(jìn)臺(tái)積電的工作流程，這一舉措不僅帶來(lái)了性能上的巨大飛越,，還成功縮減了周期時(shí)長(zhǎng),，降低了能耗標(biāo)準(zhǔn)，同時(shí)提升了處理能力,。
計(jì)算光刻技術(shù)核心在于通過(guò)精密的軟件模擬優(yōu)化光刻過(guò)程,，它借助數(shù)學(xué)手段預(yù)處理光掩模數(shù)據(jù)，調(diào)整光學(xué)效應(yīng),，確保光刻圖像與芯片設(shè)計(jì)的高度契合,，提升成品率,。cuLitho計(jì)算光刻庫(kù)的巧妙運(yùn)用,，使得任務(wù)能夠高效地分配給GPU并行處理，僅僅500臺(tái)NVIDIA DGX H100即可匹敵由40000個(gè)CPU構(gòu)成的系統(tǒng)處理能力,。
據(jù)英偉達(dá)介紹,，采用GPU進(jìn)行計(jì)算光刻相較于CPU能實(shí)現(xiàn)效率40倍的躍升，極大緩解了芯片制造廠的壓力,，推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向新的高度,。臺(tái)積電用上英偉達(dá)計(jì)算光刻平臺(tái)生產(chǎn)！
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