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多次來(lái)到光谷,習(xí)近平為何重點(diǎn)關(guān)注這個(gè)領(lǐng)域?

11月5日下午,,習(xí)近平總書(shū)記到武漢產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展研究院考察,觀看科技創(chuàng)新供應(yīng)鏈平臺(tái)成功案例展示和科技創(chuàng)新成果,,了解推進(jìn)科技創(chuàng)新的舉措,同科研人員和企業(yè)負(fù)責(zé)人深入探討交流,。

2013年至今四赴光谷實(shí)地調(diào)研,,今年在多地考察重點(diǎn)關(guān)注,習(xí)近平總書(shū)記對(duì)科技創(chuàng)新的關(guān)切和重視,,始終如一,。

(責(zé)任編輯:梁云嬌 CN079)