在全球經(jīng)濟(jì)一體化的大背景之下,美國(guó)在高科技領(lǐng)域?qū)χ袊?guó)企業(yè)的打壓做法,,不僅是一種極度不自信的表現(xiàn),而且也不符合全球科技合作的趨勢(shì),。
而且只要回顧歷史就會(huì)發(fā)現(xiàn),,
美國(guó)對(duì)華技術(shù)的封鎖,不僅遏制不了中國(guó)高科技的發(fā)展,,還會(huì)成為推動(dòng)中國(guó)科技躍升的重要?jiǎng)恿Α?/p>
2019年4月,,武漢光電國(guó)家研究中心甘棕松團(tuán)隊(duì),采用二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制,,采用遠(yuǎn)場(chǎng)光學(xué)的辦法,,光刻出最小9納米線寬的線段。該樣機(jī)實(shí)現(xiàn)了材料,,軟件和零部件等三個(gè)方面的國(guó)產(chǎn)化,,打破了三維微納光制造的國(guó)外技術(shù)壟斷。
美國(guó)阻撓荷蘭向中國(guó)出口光刻機(jī),,只會(huì)變成中國(guó)人的自我鞭策:不能讓光刻機(jī)成為中國(guó)科技界心中永遠(yuǎn)的痛,。
(海外網(wǎng)評(píng)論員 陳洋)