俄羅斯首臺光刻機制造完成自主技術突破局限

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2024-05-26 12:35:25 鈦媒體APP

俄羅斯在“工業(yè)俄羅斯數(shù)字產(chǎn)業(yè)”會議中宣布,，成功自主研發(fā)并制造了首臺光刻機,，正進行測試階段。這臺設備適用于350nm制程的芯片生產(chǎn),，有望服務于汽車、能源和電信等行業(yè),，成本約為4.95萬美元,。若此成就屬實，俄羅斯將成為第五個完全掌握光刻技術的國家,，也是在美國制裁壓力下自主研發(fā)光刻機的唯一國家,。

光刻機技術對半導體行業(yè)至關重要，目前7nm及以上制程主要依賴DUV光刻機,，而ASML壟斷了5nm,、3nm等先進制程所需的EUV光刻機市場。俄羅斯的350nm光刻機采用超紫外線平版印刷術,，盡管技術上與國際領先水平有差距,，但對于提升本國微電子自主生產(chǎn)能力具有戰(zhàn)略意義。

鑒于國際形勢,，ASML,、尼康等光刻設備供應商已暫停對俄出口。俄羅斯進口芯片規(guī)模有限,，2021年約為1億美元,，全球市場占比微乎其微。為此,，俄羅斯政府制定了到2030年的芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展藍圖,，旨在實現(xiàn)電子零部件本土化和減少對外依賴，目標是到2030年將半導體市場份額提升至3%,，并將國產(chǎn)電子元件比例從11%提高至70%,。

為支持這一計劃，普京總統(tǒng)批準了超過174億元人民幣的巨額資金,，用于電子工程綜合發(fā)展,，包括建造新工廠。俄羅斯現(xiàn)有的兩家主要晶圓廠Mikron和Angstrem公司預計將受益于國產(chǎn)光刻機的投入使用,。

俄羅斯的雄心不止于此,，計劃到2026年推出130nm光刻機原型，并繼續(xù)向更高精度的90nm乃至更先進的光刻技術邁進,。諾夫哥羅德應用物理研究所還透露,，俄羅斯有望在2028年實現(xiàn)7nm芯片光刻機的全面生產(chǎn)，并且俄羅斯科學院也在探索X射線光刻技術,，以期在未來幾年內(nèi)開發(fā)出高性能光刻系統(tǒng),。

盡管俄羅斯展現(xiàn)出在AI、量子計算等領域的野心,，但外界對此持有保留態(tài)度,，認為俄羅斯想要短時間內(nèi)獨立研發(fā)出尖端光刻技術并建立完整的芯片生產(chǎn)線面臨巨大挑戰(zhàn),。然而，俄羅斯官員強調(diào),，半導體主權對于維護國家技術主權至關重要,，并預期到2023年能達到14nm生產(chǎn)水平，展現(xiàn)其在芯片技術自主道路上的決心,。

綜觀全局,，俄羅斯在追求芯片自主生產(chǎn)的道路上邁出了實質(zhì)性的步伐，盡管前路充滿未知和挑戰(zhàn),，但其戰(zhàn)略意圖和投資力度不容小覷,。

(責任編輯：張蕾)

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