首先,,固態(tài)DUV光源技術(shù)可以在7nm甚至3nm芯片制造上發(fā)揮作用,這意味著不需要購買EUV光刻機(jī)也能制造先進(jìn)芯片,。其次,,這項技術(shù)繞開了美國企業(yè)的專利群,,因為其設(shè)計和材料都發(fā)生了巨大變化,。最后,固態(tài)光源技術(shù)使光刻機(jī)結(jié)構(gòu)更簡單,,體積可以縮小30%以上,,降低了能耗。
盡管這項技術(shù)還在實驗室階段,,許多細(xì)節(jié)需要完善,,但其潛力不容忽視。即使未來不能完全落地,,不斷嘗試新的光源技術(shù)也終將突破現(xiàn)有的技術(shù)限制,。這也正是ASML最擔(dān)心的地方。