亟待攻克的核心技術(shù)

編者按 近年來(lái)，中國(guó)科技正帶著澎湃動(dòng)力向前奔跑,，并逐漸進(jìn)入到跟跑,、并跑、領(lǐng)跑“三跑并存”的階段,。但我們?cè)诔錆M信心的同時(shí),，還應(yīng)更加清醒和理性,。與發(fā)達(dá)國(guó)家相比,，我國(guó)不少領(lǐng)域關(guān)鍵核心技術(shù)受制于人，亟待集中力量奮力攻關(guān)。

真正的核心技術(shù)靠化緣是要不來(lái)的,。我們還有多少亟待攻克的關(guān)鍵核心技術(shù),，差距在哪，需要從哪些方面突破,？本報(bào)從今天起,，開辟“亟待攻克的核心技術(shù)”專欄，就此進(jìn)行梳理,、解讀和評(píng)析,。

指甲蓋大小的芯片，密布千萬(wàn)電線,，紋絲不亂,，需要極端精準(zhǔn)的照相機(jī)——光刻機(jī)。光刻機(jī)精度,，決定了芯片的上限,。高精度光刻機(jī)產(chǎn)自ASML、尼康和佳能三家,；頂級(jí)光刻機(jī)由ASML壟斷,。

“十二五”科技成就展覽上，上海微電子裝備公司（SMEE）生產(chǎn)的中國(guó)最好的光刻機(jī),，與中國(guó)的大飛機(jī)、登月車并列,。它的加工精度是90納米,，相當(dāng)于2004年上市的奔騰四CPU的水準(zhǔn)。國(guó)外已經(jīng)做到了十幾納米,。

　　祖?zhèn)鞯哪ョR手藝

光刻機(jī)跟照相機(jī)差不多,，它的底片，是涂滿光敏膠的硅片,。電路圖案經(jīng)光刻機(jī),，縮微投射到底片,，蝕刻掉一部分膠,，露出硅面做化學(xué)處理。制造芯片,，要重復(fù)幾十遍這個(gè)過(guò)程,。

位于光刻機(jī)中心的鏡頭,，由20多塊鍋底大的鏡片串聯(lián)組成,。鏡片得高純度透光材料+高質(zhì)量拋光,。SMEE光刻機(jī)使用的鏡片,，得數(shù)萬(wàn)美元一塊,。

ASML的鏡片是蔡司技術(shù)打底,。鏡片材質(zhì)做到均勻,，需幾十年到上百年技術(shù)積淀,。

“同樣一個(gè)鏡片，不同工人去磨,，光潔度相差十倍?！盨MEE總經(jīng)理賀榮明說(shuō),，他在德國(guó)看到，拋光鏡片的工人,，祖孫三代在同一家公司的同一個(gè)職位,。