9月6日,,荷蘭政府宣布了新的浸潤式DUV光刻設備出口許可規(guī)則。光刻機制造巨擘ASML對此發(fā)布聲明,,指出新規(guī)則旨在使出口許可流程更加統(tǒng)一協(xié)調,。自2024年9月7日起,,ASML出口相關高端制造裝備至歐盟以外地區(qū)前,,必須向荷蘭政府申請授權,,政府則會依據(jù)具體情況進行審批,。
此前,路透社報道了美國單方對ASML出口施加限制,,引發(fā)荷蘭議員對國家主權受損的擔憂,,ASML也表達了在美國與荷蘭不同許可要求下運營的難度。
根據(jù)最新的許可條款,,結合美國《出口管理條例》特定章節(jié),,ASML在出口TWINSCAN NXT:1970i和1980i型浸潤式DUV光刻系統(tǒng)時,需向荷蘭政府申請許可,,而非以往的美國政府,。實際上,荷蘭政府已對TWINSCAN NXT:2000i及其后推出的浸潤式光刻系統(tǒng)執(zhí)行了相似的許可要求,,ASML的EUV光刻系統(tǒng)銷售同樣受限于出口許可政策,。
ASML強調,這一變動屬于程序性調整,,預計不會顯著影響公司2024年的財務預測或在2022年11月投資者日上披露的長期發(fā)展藍圖,。
9月8日,,商務部新聞發(fā)言人就荷蘭半導體出口管制問題答記者問。
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