荷蘭還是下手了出口管制加碼，光刻機風暴再起

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2024-09-07 13:26:40 WB半導體封測張工

荷蘭還是下手了

2024年9月7日,，荷蘭政府頒布了一項新規(guī)定,，要求出口到歐盟以外地區(qū)的先進光刻機等設備必須得到特別許可。這一決策對全球半導體行業(yè)產(chǎn)生了震動,，尤其是考慮到ASML公司在光刻機領(lǐng)域的領(lǐng)導地位,。ASML的光刻機作為半導體制造的關(guān)鍵設備，其重要性顯而易見,，而荷蘭此舉無疑將對全球產(chǎn)業(yè)布局產(chǎn)生長遠影響,。

荷蘭的這項出口管控強化措施可能基于多重考量。一方面,，意在保護國家核心技術(shù)和產(chǎn)業(yè)競爭優(yōu)勢，確保在全球科技競賽中的主導權(quán),；另一方面,，也反映了國際政治經(jīng)濟環(huán)境變化下，出口策略的必要調(diào)整,。然而,，這對于ASML來說是個重大的挑戰(zhàn)，因為即使有與中國合作的愿望,，也必須遵循來自美國的指令,，顯示了國際關(guān)系中的復雜依附性。

具體到受限制的設備,，荷蘭明確指出為深紫外(DUV)浸沒式光刻機,，此舉被廣泛認為對中國的直接影響顯著，因為早前極紫外(EUV)光刻機已禁止向中國銷售,，除了歐盟和俄羅斯等特定情況外,。美國自2018年起便推動對華芯片科技的壓制措施，特別是限制ASML向中國出口高精度及EUV光刻機,，近年來更是頻繁以“國家安全”為由收緊出口政策,。去年10月，美國單方面宣布進一步限制ASML對中國光刻機的出口，盡管中國是荷蘭重要的出口市場,。

中國在光刻機技術(shù)上面臨的封鎖促使國內(nèi)企業(yè)加大自主研發(fā)力度,，旨在滿足內(nèi)需并提高國際競爭力，這一過程并非破壞而是被迫的創(chuàng)新之路,。前ASML CEO彼得·溫寧克曾指出,，美國的限制最終可能導致反效果，推動中國加速研發(fā),，最終實現(xiàn)技術(shù)獨立,。歷史和現(xiàn)狀均顯示，外部壓力往往激發(fā)中國內(nèi)在的創(chuàng)新潛力,，從無到有,，迎難而上，最終在諸多技術(shù)領(lǐng)域取得突破,。

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