2024年12月9日,國家知識產(chǎn)權(quán)局公開了一項由ASML控股股份有限公司申請的專利,,名為“光刻設(shè)備,、襯底臺和不均勻涂層方法”,,公開號為CN 119087748 A,,申請日期為2020年4月,。
該專利描述了一種光刻設(shè)備,包括照射系統(tǒng)、支撐件,、投影系統(tǒng)以及襯底臺。襯底臺包含一個臺座,,其表面覆蓋有一層不均勻厚度的涂層,。這種涂層的設(shè)計使得臺座相對于名義平坦度的偏轉(zhuǎn)成為由涂層引起的應(yīng)力函數(shù)。涂層的橫截面輪廓根據(jù)應(yīng)力和不均勻厚度進(jìn)行調(diào)整,,確保涂層表面保持實質(zhì)上的平坦,,并在襯底臺支撐襯底時與之接觸。
2024年9月18日,,榮耀終端有限公司提交了一項名為“通信方法、設(shè)備及存儲介質(zhì)”的專利申請,,公開號為CN202411124521.8,,申請時間追溯至同年8月
2024-09-19 10:51:28華為申請近場通信專利