臺積電在2納米工藝制程的競賽中再次領先,。12月6日,,據(jù)中國臺灣媒體報道,,臺積電已在新竹縣寶山工廠完成2納米制程晶圓的試生產工作,,良品率高達60%,,遠超公司內部預期,。臺積電董事長魏哲家曾表示,2納米制程市場需求巨大,,客戶訂單可能超過3納米制程,。
臺積電規(guī)劃了新竹和高雄兩地至少四座工廠用于2納米制程生產,在滿產狀態(tài)下,,到2026年初總產能將達12萬片晶圓,。在三星工藝開發(fā)受挫、英特爾代工業(yè)務前景不明的情況下,,臺積電在芯片代工行業(yè)已取得明顯優(yōu)勢,。
進入先進制程后,2納米節(jié)點被視為關鍵節(jié)點,。傳統(tǒng)的FinFET架構在此尺度下開始失效,,CMOS器件的短溝道效應問題再次凸顯。為解決這一問題,,華人科學家胡正明提出了鰭式場效應晶體管(FinFET)架構,,使摩爾定律得以延續(xù)近20年。然而,,進入5納米工藝制程后,,F(xiàn)inFET架構也開始逐漸失效,GAAFET架構應運而生,。GAAFET架構通過旋轉柵極鰭片并在垂直方向上分多條鰭片,,增加了與溝道的接觸面積。
臺積電在開發(fā)3納米工藝時選擇繼續(xù)優(yōu)化FinFET結構,,取得了良好效果,。蘋果A17芯片等使用臺積電3納米工藝的產品未出現(xiàn)明顯發(fā)熱或高功耗問題,良率也達到80%以上,。相比之下,,三星在3納米工藝上直接采用GAAFET架構,,但因開發(fā)難度大且時間緊迫,良率不足20%,,無法滿足量產需求,。這使得臺積電幾乎包攬了全球3納米芯片產能,三季度財報顯示,,其營收和凈利潤分別增長36.27%和50.18%,。
在3納米工藝代工獲得豐厚收益后,臺積電在2納米工藝上的開發(fā)更加從容,。臺積電此前公布的路線圖顯示,,N2工藝在相同功耗下性能比N3E提升10%-15%,而在相同性能下功耗降低25%-30%,。盡管2納米工藝代工價格預計高達3萬美元,,但對消費電子芯片廠商尤其是SoC設計廠商仍有巨大吸引力。
2納米芯片的研發(fā)費用預計高達數(shù)十億美元,,這些成本最終將轉嫁給消費者,。臺積電在芯片代工行業(yè)中已形成壟斷地位,,今年兩次提高代工費用,,不僅針對3納米工藝,甚至5納米工藝的價格也上調4%-10%,。
三星電子在3納米工藝上受挫后,,計劃全力投入2納米工藝,但預計至少要到2027年才能實現(xiàn)量產,。英特爾雖然完成了18A工藝(等效2納米)的試生產,,但良率過低且公司處于動蕩期,量產時間不確定,。因此,,在2納米工藝制程開發(fā)上,臺積電的競爭對手目前難以匹敵,,下游廠商在未來相當長一段時間內只能接受臺積電的高價,。
臺積電于6月18日就先進制程漲價的市場傳聞作出回應,。據(jù)傳,臺積電計劃在下半年商討提升5納米,、3納米及未來2納米制程的價格,,可能的漲價措施預計自2025年起實施
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